ALD機台
機台架構
  • 每部ALD都具備6個腔體位置,與EFEM高度整合
  • 可依客戶需求選擇腔體配置,高度客製化
  • 可選配treatment chamber,有效進行ALD deposition的pre-treatment or post treatment
  • 因應高低溫與charge damage concern,可選擇Thermal ALD,或是PEALD
  • 搭配SECS / GEM高度自動化
  • 專利進氣設計及showerhead系統設計,絕佳均勻性
  • 可選擇搭配自動取放片機,以實現不同尺寸晶圓在12吋平台上鍍膜,實現高度自動化